이번 워크숍은 지난해 우리나라에서 열린 ID5* 연례회의(’23. 9월)에서 우리 특허청이 신규 협력과제로 제안해 처음 열리는 것으로서, 일본 도쿄에서 열리는 ID5 중간회의(4. 24)에 이어 양일간 개최된다. 워크숍은 한국 특허청과 미국특허상표청(USPTO)이 공동으로 주도한다.
'국제디자인출원 심사 과정 및 결과 공유로 제도 조화 및 심사 품질 향상 기대'
디자인분야 국제규범 형성을 주도하고 있는 5개국은 이번 특별 워크숍에서 각국의 국제디자인 출원제도 운영 현황과 문제점을 논의하고 향후 발전방향을 모색한다.
워크숍 첫날에는 주로 5개 관청별로 국제디자인 출원 심사에 적용하고 있는 심사 기준과 실무 관행에 관해 발표한다.
2일차에는 5개 국가에 공통으로 출원된 국제디자인 출원건 중 거절 이유나 심사 결과가 상이한 것들을 선정해 개별 관청의 심사 과정을 서로 비교·분석해보는 시간을 가진다.
본 워크숍에는 ID5 국제디자인 관계자 외에 세계지식재산기구(WIPO) 국제디자인출원 국장도 참여할 예정이다. 따라서 본 워크숍의 내용과 결과는 국제디자인 출원제도가 보다 사용자 친화적으로 발전하는 데 영향을 줄 것으로 보인다.
특허청 구영민 상표디자인심사국장은 “본 워크숍을 통해 각 관청들이 서로의 심사 과정과 결과를 공유함으로써 국가 간 디자인제도의 조화를 모색하는 중요한 출발점이 될 것으로 보이며, 국제디자인 심사 품질을 제고하는 데도 상당 부분 기여할 것으로 기대한다”고 밝혔다.
한편, 본 워크숍이나 국제디자인 출원제도 관련해 보다 자세한 내용은 특허청 디자인심사정책과로 문의하면 된다.
[뉴스출처 : 특허청]
